powdr nitrid ferrosilicon Made In China
powdr nitrid ferrosilicon Paramedrau
| N | Os | Ab | O | dwysedd swmp |
| Llai na neu'n hafal i | Yn fwy na neu'n hafal i | |||
| 28-31 | 47-52 | 12-17 | 2 | 3.6 |
| 1. Mae'r cynhyrchion yn addas ar gyfer mwyndoddi dur di-staen, mwyndoddi aloi arbennig, deunyddiau gwrthsafol arbennig, y diwydiant Arfau, y diwydiant electronig, y diwydiant castio, ac ati 2. Gellir addasu cydrannau a maint gronynnau yn unol ag anghenion defnyddwyr |
||||
Gronynnedd y fanyleb: bloc naturiol, 10-100mm, 10-60mm, 3-10mm, 1-3mm, 0-1mm, neu wedi'i addasu yn unol â gofynion y cwsmer.
Pecynnu: Pecynnu bagiau tunnell (1000kg / bag) neu wedi'i addasu yn unol â gofynion y cwsmer.
Gwybodaeth powdr nitrid Ferro silicon
Rhagolygon cais onitrid ferrosiliconpowdr: Ar hyn o bryd, mae cyflymder a dwysedd integreiddio cylchedau lled-ddargludyddion yn cynyddu'n raddol, ac felly mae maint sglodion lled-ddargludyddion yn cynyddu'n raddol. Yn ogystal, er mwyn darparu strwythurau rhyng-gysylltu aml-haen, caiff lled y rhyng-gysylltiadau ei leihau'n raddol ac mae diamedr y wafer yn dod yn fwy.
Fodd bynnag, wrth i ddwysedd integreiddio dyfeisiau gynyddu ac wrth i'r lled llinell isaf leihau, deuir ar draws cyfyngiadau na ellir eu goresgyn gan ddefnyddio cynlluneiddio lleol yn ôl technegau cysylltiedig. Er mwyn gwella effeithlonrwydd neu ansawdd prosesu, mae powdr nitrid ferrosilicon yn defnyddio sgleinio mecanyddol cemegol (CMP, planarization mecanyddol cemegol) i berfformio planarization byd-eang y wafer. Mae cynlluneiddio byd-eang gan ddefnyddio CMP yn rhan angenrheidiol o brosesu wafferi presennol.
Cymwysiadau penodol powdr nitrid ferrosilicon: Mae hylifau sgleinio a ddefnyddir ar gyfer triniaeth CMP yn cynnwys gronynnau sgraffiniol fel silica, alwminiwm ocsid, neu cerium ocsid, ac mae triniaeth CMP wedi'i ddosbarthu'n fras yn CMP ocsid a CMP Metel. Yn gyffredinol, mae gan slyri caboli ar gyfer CMP ocsid pH o 10-12, ac mae gan slyri caboli ar gyfer CMP metel pH asidig o 4 neu lai. Mae addaswyr pad CMP confensiynol yn cynnwys addaswyr pad CMP electroplated a weithgynhyrchir gan electroplatio prosesu a toddi math pad CMP addaswyr a weithgynhyrchir gan toddi cymhwyswyr pad CMP a powdr nitrid ferrosilicon ar dymheredd uchel.
Fodd bynnag, mae'r rhain yn fath platio confensiynol a math toddi cyflyrwyr pad CMP yn cael problemau yn yr agweddau canlynol. Pan gânt eu defnyddio ar gyfer addasiad in-situ mewn prosesu CMP metel, mae'r defnydd o slyri CMP yn effeithio ar y gronynnau diemwnt sydd ynghlwm wrth wyneb y pad cyflyrydd CMP. Mae gweithrediad caboli'r gronynnau caboli a'r hydoddiant asidig yn achosi erydiad arwyneb ac yn dod yn ddatgysylltiedig o'r wyneb. Ar ben hynny, mae'n bosibl y byddai'r swbstrad wedi'i wneud o ddeunydd ceramig fel powdr nitrid ferrosilicon (Si3N4) neu silicon (Si). Mae enghreifftiau eraill o ddeunyddiau o'r swbstrad 10 yn cynnwys alwminiwm ocsid (A1203), nitrid alwminiwm (AlN), titaniwm ocsid (TiO2), zircon ocsid (ZrOx), a silicon deuocsid (SiO2).
Fe wnaethom basio ardystiad ISO9001 a chawsom ein hardystio gan SGS. Rydym yn allforio ledled y byd ac rydym yn croesawu eich cydweithrediad yn ddiffuant, gan edrych ymlaen at adeiladu perthynas fusnes gyda chi.
Tagiau poblogaidd: ferrosilicon nitride powdr, Tsieina ferrosilicon nitride powdr gweithgynhyrchwyr, cyflenwyr, ffatri